ギ酸還元真空リフロー炉／バッチタイプ

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ギ酸還元真空リフロー炉／バッチタイプ

モデル： SQ1

SQ1は1チャンバーに加熱冷却機構を備えたコンパクトなバッチタイプのギ酸還元真空リフロー炉で、研究開発や少量生産に適しています。
ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要となります。
また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが出来ます。
処理スペース：W300 x D300 x H100mm

特徴

1.ギ酸の直接気化
　・弊社独自のガスジェネレーターを搭載。これまでにない瞬間的な気化を実現します
2.高速な加熱冷却機構
　・IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた弊社独自の加熱冷却機構を搭載。
　　加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献します
3.安全なギ酸供給・排出
　・専用タンクへのギ酸の移し変えが不要。お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます
　・弊社独自の分解処理ユニットを搭載。排気中のギ酸を完全に無害化します

用途

・パワーモジュール等のデバイス
・ウエハバンプ（バンプ形成）
・LED
・FCB

資料

詳細に関しては以下の資料をご確認ください。
・製品カタログ
・仕様書

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